跟著工業化的遍及,純水在電子工業首要是電子元器材出產中的重要作用日益突出,純水水質已成為影響電子元器材產品質量、出產成品率及出產成本的重要因素之一,水質要求也越來越高。在電子元器材出產中,高純水首要用作清洗用水及用來制造各種溶液、漿料,不同的電子元器材出產中純水的用處及對水質的要求也不同。
在電解電容器出產中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會漏電。在電子管出產中,電子管陰極涂敷碳酸鹽,如其間混入雜質,就會影響電子的發射,從而影響電子管的擴大功能及壽數,因此其配液要使用純水。
在晶體管、集成電路出產中,純水首要用于清洗硅片,還有少數用于藥液制造,硅片氧化的水汽源,部分設備的冷卻水,制造電鍍液等。集成電路出產過程中的80%的工序需求使用高純水清洗硅片,水質的好壞與集成電路的產品質量及出產成品率聯系很大。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,重金屬(Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓下降,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化,水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器材功能變壞,水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片外表,就會引起電路短路或特性變差。
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